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中国科学家研发成功世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻机

发布时间:2019-12-01  浏览次数:852   文章來源:www.midg.org

11月29日,中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研设备开发项目“超分辨率光刻设备的开发”通过验收试验。这是世界上第一台采用紫外光源实现22 nm分辨率的光刻机。

光刻机相当于投影仪,细线图案投射在感光板上,光线是雕刻刀。然而,线的细度水平具有的极限,其不能小于光波长的一半。 “光线太胖,门太窄,光线无法通过。”参与这项研究的科学家杨勇告诉“科技日报”记者。

使用深紫外光源的光刻机是主流,其成像分辨率极限是34nm,并且通过使用昂贵的多次曝光技术等进一步提高了分辨率。

2003年,光电子学开始研究一种新方法:金属和非金属薄膜键合,界面处会有无序电子;光照射金属膜,使这些电子以有序的方式振动,产生波长更短的电磁波,可用于光刻。

这样,“宽刀”变成了“窄刀”。由Optoelectronics开发的光刻机在365nm波长光源下的单次曝光中具有22nm的最大线宽分辨率,相当于1/17波长。

光刻机是熟悉的,因为它是集成电路制造业的核心角色。目前,荷兰ASML垄断的尖端集成电路光刻机具有7nm的加工极限。光电子光刻机的分辨率为22nm,但定位不同。

光电子的光刻机专门处理一系列纳米功能器件,包括大直径薄膜反射镜,超导纳米线单光子探测器,切伦科夫辐射装置,生化传感器芯片和超表面成像装置。遥感成像,生化痕量测量,特殊表面材料等领域具有重要意义。

“ASML的EUV光刻机采用13.5 nm EUV光源,耗资3000万元,也可在真空下使用。”该项目副主任胡松“我们使用的是365纳米紫外汞灯”。只要几万元。我们的机器价格从100万元到1000万元不等,加工能力介于深紫外线和极紫外线之间,这让很多用户大喜过望。“

光电子采用高分辨率,大面积技术路线,掌握了超分辨率光刻镜头,精密间隙检测,纳米级定位精密工件台,高纵横比蚀刻和多图形匹配光刻工艺等核心专利。控制,超分辨率成像光刻领域的国际领导者。